Kereső
Bejelentkezés
Kapcsolat
|
|
Beágyazott rendszer fejlesztése tömeg-spektrometriás mérések feldolgozására
|
| Tartalom: | http://hdl.handle.net/10598/29734 |
|---|---|
| Archívum: | EDA |
| Gyűjtemény: |
2. AZ EME KIADVÁNYAI - PUBLICAȚII PROPRII (SMA) - OWN PUBLICATIONS (TMS) - EIGENE VERÖFFENTLICHUNGEN (SMV)
Műszaki Tudományos Közlemények - Papers on Technical Science Sorozatok - Serii - Series - Bücherreihen MTK 4. - XVI. MTÜ |
| Cím: |
Beágyazott rendszer fejlesztése tömeg-spektrometriás mérések feldolgozására
Development of an embedded system for processing mass spectrometry measurements
|
| Létrehozó: |
Fekete, Albert-Zsombor
Jakab-Farkas, László
Papp, Sándor
|
| Kiadó: |
Erdélyi Múzeum-Egyesület
|
| Dátum: |
2017-01-05T13:47:55Z
2017-01-05T13:47:55Z
2015
2016
|
| Téma: |
kvadrupól tömegspektrométer
beágyazott rendszer
webkiszolgáló
osztott rendszer
quadrupole mass spectrometer
embedded system
web server
distributed system
|
| Tartalmi leírás: |
A reaktív egyenáramú magnetronos plazmaporlasztási eljárással előállított titán-nitrid és titán-oxinitrid kopásálló vékonyréteg-bevonatokat számos ipari alkalmazásban hasznosítják. A sikeres porlasztási folyamat kulcsa a különböző egymástól függő rendszerparaméterek megfelelő mérése és szabályozása. Ilyen például a porlasztási teljesítmény, a dinamikus nyomás, valamint a semleges és reaktív gázok parciális nyomásai, amelyek közvetlenül befolyásolják a vékonyréteg-bevonat szerkezetét és összetételét, meghatározva egyben a mechanikai tulajdonságait. A reaktív gázok parciális nyomásainak szabályozása révén elérhető a konstans rétegszerkezet. A cikkben bemutatott témakörök közé sorolhatjuk a központi adatfeldolgozó egység tervezésének ismertetését, melynek segítségével lehetőség nyílik a mérőberendezésként használt kvadrupól típusú tömegspektrométer működtetésére, valamint az általa szolgáltatott mérési adatok feldolgozására. A beágyazott osztott rendszer erőforrásainak helyes használata érdekében a különböző algoritmusok optimális működésre lettek tervezve, kamatoztatva a mikrovezérlők perifériás moduljainak előnyeit.
Wear-resistant thin film coatings such as TixNy and TiOxNy are produced for various industrial applications, obtained through reactive magnetron sputtering process. The key to a successful sputtering process is the adequate monitoring and control of the various interdependent factors, such as sputtering power, dynamic pressure and partial pressures of the inert and reactive gases, which influence directly the structure and composition of the thin film coating, determining its mechanical properties. Measuring and maintaining the partial pressures of the reactive gases at a desired set point value have a positive effect on the performance of thin films coatings produced. The presented topics include the design of a data management unit that enables the control of a quadrupole analyser used as a measuring device; the development of different applications and algorithms implemented on the embedded system; as well as the evaluation of the measurements. The different algorithms for the microcontrollers were designed to operate as efficient as possible, by exploiting the benefits of integrated peripheral modules, and by developing optimized codes, conserving system resources.
|
| Nyelv: |
magyar
|
| Típus: |
article
|
| Formátum: |
PDF
application/pdf
|
| Azonosító: | |
| Forrás: |
Erdélyi Múzeum-Egyesület
|
| Kapcsolat: |
Műszaki tudományos közlemények, 4.
|
| Létrehozó: |
Erdélyi Múzeum-Egyesület
|